國產SU-8 2010光刻膠

簡介：
中芯啟恒su-8 2000系列光刻膠是負性光刻膠，采用環戊酮溶劑配制而成，在超厚度膠膜涂布工藝中，圖案化的結構有較好的穩定性和高分辨率，其膜厚范圍比任何其他市售光刻膠更廣泛，單次旋涂工藝膠膜厚度可選1-300um范圍，可根據需要進行多次旋涂，從而獲得更厚的膠膜。自2019年推出后，受到了同行業客戶的青睞，在mems微加工領域占據越來越多的市場份額。
中芯啟恒su-8 2000系列光刻膠根據粘度不同，劃分為以下型號：
中芯啟恒su-8 2000系列
單次旋涂膜厚范圍
su-8 2005
2-8um
su-8 2015
12-38um
su-8 2025
20-80um
su-8 2050
40-170um
su-8 2075
60-240um
su-8 2100
100-270um
備注：不同膜厚可通過調節勻膠機轉速獲得，因客戶實驗設備不同，實際參數需進行微調。
中芯啟恒su-8-2000系列光刻膠推薦使用i線365nm紫外曝光，可選設備cchip-0019型光刻機，也可使用電子束或x射線輻照。光刻膠中的光引發劑吸收光子發生化學反應，生成一種強酸，作用是在中烘或后烘過程中作為酸催化劑促進交聯反應的發生，只有曝光區域的光刻膠中才有強酸。后烘過程中，曝光區域在強酸的催化作用下，分子發生交聯。?環氧交聯發生在曝光后的烘烤步驟；一般工藝流程為：旋涂、軟烘、曝光、中烘、顯影。后烘或硬烘可以提高圖案的分辨率或消除因應力出現的裂紋，增加圖案與襯底的粘附力。