賽米萊德公司(圖)-金屬光刻膠廠家-金屬光刻膠
光刻膠分類
正性光刻膠和負性光刻膠
光刻膠可依據不同的產品標準進行分類。按照化學反應和顯影的原理，金屬光刻膠，光刻膠可分為正性光刻膠和負性光刻膠。如果顯影時未*部分溶解于顯影液，形成的圖形與掩膜版相反，金屬光刻膠廠家，稱為負性光刻膠;如果顯影時*部分溶解于顯影液，形成的圖形與掩膜版相同，稱為正性光刻膠。
在實際運用過程中，金屬光刻膠供應商，由于負性光刻膠在顯影時容易發生變形和膨脹的情況，一般情況下分辨率只能達到 2 微米，因此正性光刻膠的應用更為廣泛。
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光刻膠可以分為哪幾類
光刻膠的技術復雜，品種較多。根據其化學反應機理和顯影原理，可分負性膠和正性膠兩類。光照后形成不可溶物質的是負性膠。反之，對某些溶劑是不可溶的，經光照后變成可溶物質的即為正性膠。
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微流控芯片硅片模具加工如何選擇光刻膠呢？
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一般來說線寬的用正膠，線窄的用負膠，正性光刻膠比負性的精度要高，負膠顯影后圖形有漲縮，負性膠限制在2~3μm.，而正性膠的分辨力優于0.5μm 導致影響精度，正性膠則無這方面的影響。雖然使用更薄的膠層厚度可以改善負性膠的分辨率，但是薄負性膠會影響。同種厚度的正負膠，在對于*濕法和腐蝕性方面負膠更勝一籌，正膠難以企及。
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