小型高溫真空鍍膜儀

小型高溫真空鍍膜儀kt-z1650cvd
是一款小型多功能鍍膜儀，額定1800度高溫，自動樣品擋板，靶臺旋轉，觸摸屏多段控制，工藝儲存等功能。
真空蒸發鍍膜包括以下基本過程：
（1）加熱蒸發過程：包括由凝聚相轉變為氣相的過程，每種蒸發物質在不同的溫度有不同的飽和蒸氣壓。
（2）氣態原子或分子在蒸發源與基片之間運輸，即原子或分子在環境氣氛中的飛行過程。
（3）蒸發原子或分子在基片表面張得沉積過程。即是蒸發，凝聚，成核，核生長，形成連續的膜。由于基板溫度遠低于基板溫度遠低于蒸發源溫度，因此，氣態分子在基片表面將發生直接由氣態到固態的相轉變過程。
技術參數
控制方式
7寸人機界面 手動 自動模式切換控制
加熱方式
數字式功率調整器
鍍膜功能
0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
功率
≤1200w
輸出電壓電流
電壓≤12v 電流≤120a
真空度
機械泵 ≤5pa（5分鐘） 分子泵≤10^-3pa
擋板類型
電控
真空腔室
石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm
樣品臺
可旋轉φ62 （可安裝φ50基底）
樣品臺轉速
8轉/分鐘
樣品蒸發源調節距離
70-140mm
蒸發溫度調節
≤1800℃
支持蒸發坩堝類型
鎢絲藍 帶坩堝鎢絲藍 鎢舟 碳繩
預留真空接口
kf25抽氣口 kf16真空計接口 kf16放氣口 6mm卡套進氣口
可選配擴展
機械真空泵（可抽真空 5分鐘＜5pa）
數顯真空計（測量范圍大氣壓到0.1pa）
分子泵機組（可抽真空20分鐘≤5x10-3pa）