工件內(nèi)孔拋光的秘訣：磨粒流鏡面拋光技術(shù)詳解與案例分享

針對精密工件內(nèi)孔拋光，需要提升光潔度、降低粗糙度，且需要均勻、高效地拋光，這種工件通常需要利用磨粒流設備進行拋光。
對于內(nèi)孔內(nèi)壁的磨粒流拋光，是一種物理拋光方式，利用彈性軟磨料進行擠壓研磨，從而提升內(nèi)壁光潔度。彈性軟磨料經(jīng)過增壓系統(tǒng)后，擠壓進入工件孔內(nèi)，進行精細研磨。磨料類型通常為高分子碳化硅軟磨料，鉆石軟磨料等。
磨粒流內(nèi)孔拋光效果說明：
通過磨粒流拋光后的內(nèi)壁光潔度，可以在原有基礎上，提升3-5個檔次，如原始粗糙度是0.8，可以拋到0.2或以下;原始粗糙度是0.2，可以拋到0.05或以下。內(nèi)孔原始光潔度越高，使用流體拋光后的光潔度就較容易提升!甚至可以達到**精密水準!
相比于傳統(tǒng)的拋光技術(shù)，磨粒流拋光具有許多優(yōu)勢：
首先，它可以處理各種形狀和大小的工件，從簡單的幾何形狀到復雜的曲面和溝槽，都可以實現(xiàn)精確的光潔度。
其次，磨粒流拋光可以有效去除工件表面的劃痕、凹坑和不平整部分，提高表面的平滑度和光澤度。
此外，這種技術(shù)還具有高效、環(huán)保、節(jié)約成本等優(yōu)點。
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