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pvd(physicalvapordepsition)即物*相沉積,是當前國際上廣泛應用的表面處理技術。其工作原理就是在真空條件下,利用氣體放電使氣體或被蒸發物質部分離化,在氣體離子或被蒸發物質離子轟擊作用的同時把蒸發物或其反應物沉積在基底上。它具有沉積速度快和表面清潔的特點,特別具有膜層附著力強、繞射性好、可鍍材料廣泛等特點。
pvd鍍膜pvd鍍膜是物理蒸汽沉積。不銹鋼鍍膜,也叫不銹鋼鈦/鋯鍍膜,就是在一個真空容器內,在不銹鋼表面形成鈦/鋯化合物的離子膜層,膜層能在室外環境下長年。工作原理在高溫,真空鈦金爐內,鈦、鋯金屬。借用惰性氣體的輝光放電使金屬或合金蒸氣離子化,離子經電場加速而沉積帶負電荷的不銹鋼板上,從而形成色澤豐富艷麗的金屬膜。
pvd膜層可鍍材料廣泛,與基體結合力強。經濟,可減少清洗和擦亮電鍍黃銅或金色所必須的時間和成本。高真空離子鍍膜技術——對*和生態環境*無害。對環境無害,避免化學毒,可以使用在內裝修或者室外,膜層具有生物兼容性用途廣泛,不銹鋼鍍鈦選哪家,現在主要應用于航空航天,耐高溫,高壓,*磨損零件,單縣不銹鋼鍍鈦,刀具模具,日用五金,3c電子配件,建筑裝飾,電工電子,醫學等
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